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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆工作制造九正通明属于苏北地区划分,核心工作制造89英寸半导体材料晶圆,每日生活污水废气量约800吨。由工作制造具体步骤中操作许多氢佛酸采取晶圆蚀刻,致使生活污水底氟化物渗透压将高达200-300mg/L,远超祖国废气规范标准(10mg/L一下)。 废水处理工艺成分表及来自 废水处理工艺基本来源3个阶段: 晶圆蚀刻工作 :含高氧浓度氟化物(HF)、硝酸铵及一些高价属 有机化学机器拋光(CMP)生活污水 :含微米级硅颗粒状、无机络合剂 主设备洁净化工废水 :含异丙醇、挥发酚等有机肥料物 处里的工艺环节 主要采用"检查是否沉积物+混凝土沉积物+广度吸附"一级办理软件: 6级加工 :加药系统氯化钙和氢脱色钙,确立氟化钙沉垫,氟化物快速清理率达85% 中级处理 :增长PAC(缔合氯化铝)和PAM(聚丙乙烯酰胺),除去固体态生态破坏物 二级治理 :依据多材质过滤程序器和物理吸附性炭物理吸附,有水出氟化物渗透压可靠在8mg/L有以下 重中之重专用设备还有:pH电脑自动自动调节整体、斜管乳浊液池、板框压泥机(飞灰过滤)。 终究成果 活动运动两年的数据监测的数据现示: 氟化物平均水平盐浓度:7.2mg/L(超过祖国细则) COD的还原率:92% 厌氧颗粒污泥含水量率:≤65% 年回收并氟化钙副设备约150吨,实现了能源化进行

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